金属硅化物

原理

由于硅原子半径较大，不能与过渡金属生成间隙化合物，因而这类硬质化合物化学成分稳定金属硅化物具有好的抗氧化性。

由于

由于硅与氧生成致密氧化膜，能够阻止氧在常温和高温对过渡金属发生氧化作用，因此，硅化物可以作为保护层。多在超大规模集成电路中使用，如用作金属栅、肖特基接触、欧姆接触等。

特性

硅化物熔点不高，热导率高，而抗热震性好，硬度较高，但脆性也大，有金属光泽，电阻率低。用途最多的硅化物是MoSi，熔点2030℃，硬度HV1250，抗压强度2310MPa，MoSi发热体发热温度为1600℃，可长期使用，是空气气氛中温度最高的发热体之一，用自蔓延铝热法制造的弥散AlO，质点的MoSi发热体，使用温度可达1800℃，金属、金属氧化物加碳和硅反应，可制得硅化物。

分类

常分成两大类：

(1)难熔金属硅化物，指周期表IVB、VB、VIB族元素的硅化物，如硅化钛、硅化锆、硅化钽、硅化钨等；

(2)贵金属和近贵金属硅化物，如硅化钯、硅化铂、硅化钴等。

其共同特点是：熔点高（大都在1500℃以上），最低共熔温度高（大都在1000℃以上）。电阻率低(约为10 Ω·m)，硬度高。

制备方法

制备方法主要是用淀极金属与硅的混合物烧结而成。淀积法主要有：蒸发、溅射、电镀、化学气相淀积等。