《真空镀膜技术》共分10章，系统地阐述了真空镀膜技术的基本慨念和基础理论、各种薄膜制备技术、设备及工艺、真空卷绕镀膜技术、ITO导电玻璃真空镀膜工艺，尤其重点介绍了一些近年来新出现的镀膜方法与技术，如反应磁控溅射镀膜技术、中频磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜技术等；还详细介绍了薄膜沉积及膜厚的监控与测量以及表面与薄膜分析检测技术等方面的内容。
| 1 薄膜与表面技术基础理论 | 1．1 概述 | 1．2 固体表面介绍 | 1．2．1 固体材料 |
1．2．2 固体表面与界面的基本概念 | 1．2．3 固体表面与界面的区别 | 1．3 表面晶体学 | 1．3．1 金属薄膜的晶体结构 |
1．3．2 理想的表面结构 | 1．3．3 表面与体内的差异 | 1．3．4 青洁表面结构 | 1．3．5 实际表面结构 |
1．4 表面特征(热)力学 | 1．4．1 表面力 | 1．4．2 表面张力与表面自由能 | 1．4．3 表面扩散 |
1．5 表面电子学 | 1．5．1 金属薄膜中的电迁移现象 | 1．5．2 增强薄膜抗电迁移能力的措施 | 1．6 界面与薄膜附着 |
1．6．1 界面层 | 1．6．2 附着及附着力 | 1．6．3 固体材料表面能对附着的影响 | 1．6．4 表面、界面和薄膜的应力 |
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